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八五年，機電部如今的工y部45所研製功分步刻機樣機，中k院滬海學機械研究所研製的「掃描式投影刻機「通過鑒定，採用的都是436奈米g線源，製程工藝達到1.5um，認為均達到gca生產的4800dsw水平，為國大規模集電路專用設備填補了一項空白，這是國第一台分步投影式刻機，在這個時期，在分步刻機上與國外的差距不超過七年。

八十年代，國開始大規模引進外資，用市場換技，用空間換時間，貿工技的路線了自主技長的空間，許多g企紛紛轉型，技下馬、項目停滯、「造不如買，買不如租」的思想佔據主流，其中也包括刻機項目。

國不打著高科技旗號的公司沉迷在「貿易」和「加工」帶來的「快錢」裡不可自拔。

雖然集電路的研發和生產是重點扶持的科研項目，但g企和合資晶圓公司紛紛進口3英寸、4英寸晶圓及3μm、2μm製程工藝的半導生產線，國產刻機缺乏市場競爭的優勢，幾家半導設備廠全部於虧損狀態，冇有研發資金的持續投，刻機的研發和生產停滯不前。

刻機經歷三十多年的快速發展，據刻機源劃分，從六十年代的第一代gline436nm源、第二代iline(365nm)源的接式刻機、接近式刻機，到七十年代的第三代kr248nm源的步進式投影式刻機，到八十年代的第四代ar(193nm)源的步進式掃描刻機，設備能不斷提高，推集電路按照爾定律快速發展。

bsec中三家研究所的刻機源還是kr248nm，與尼康、gca、佳能等主流刻機生產公司採用的ar193nm，差了整整一大代……

這些年，通過曙投資公司、香江曙投資公司、國曙投資公司、滬海曙東芝晶圓公司、蔡司曙學儀公司、滬海國智半導研究院和滬海曙通訊技研究院，早有謀劃的重生者收集和閱讀了國外大批有關刻機等半導技的書籍和資訊，還閱讀了七十年代國出版的《刻掩板的製造和《致抗蝕劑的製造等專業書籍，寫下二本讀書筆記和悟，加上前世的知識積累，專業語口而出，了刻機市場方麵的「專家」。

中k院微電子研究中心副所長鄧國輝因九一年主持研發功國第一台kr準分子激，被遴選為學部委員，因各方麵的原因，ar準分子激的研發到如今還冇有立項。

中k院滬海學機械研究所、工y部45所和滬海學機械廠共同研發的國最先進的248nm掃描投影式刻機，製程工藝隻有1.5μm。

nikon半導設備公司如今批量生產8英寸晶圓和500nm製程工藝的刻機，正在研製8英寸晶圓和350nm製程工藝的刻機；其他國外主流刻機公司批量生產6英寸晶圓和800nm製程工藝的刻機，正在研製8英寸晶圓和500nm製程工藝的刻機。

bsec從4英寸晶圓到8英寸晶圓，還需要攻克5英寸、6英寸和8英寸晶圓三道技關口，製程工藝從1.5μm到500nm，中間還有1μm、800nm和500nm三道關卡，趕上世界先進水平，任重道遠！

晶元製程工藝一般以0.7倍的速度減小，在單位麵積晶元上晶管數量以2倍的速度增加。

前世千禧年後，

刻機就被列863重大科技攻關計劃，將工y部原45所從事分步投影刻機的研發團隊整遷至滬海，與中k院滬海學研究所和滬海學機械廠合併，組建了滬海微電子裝配公司，承擔國產刻機「十五」攻關項目。

刻機的原理其實就像幻燈機一樣簡單，就是把通過帶電路圖的掩投影到塗有刻膠的晶圓上。

刻機包括曝係統照明係統和投影鏡係統、工作台掩版係統、自對準係統和整機係統等。

主要部件包括源、學係統鏡頭和工作台托盤和底座。

源是基本配置，需要提供某個波段的能量，而且還要極端穩定。

通過各種鏡頭把控製在幾平方厘米的一個長方形，ield。

鏡頭是刻機的核心部件，主要就是玻璃和鋼，一個1x的鏡頭後麵直徑有一米左右，重有一、二噸，4x的要大很多和重很多，這種大型的鏡頭學係統如今隻有尼康、蔡司公司和佳能公司能生產。

日本和德國公司在刻機學係統、刻膠和掩版技上領先世界。

gca的最大缺點就是因為蔡司公司提供的學係統跟不上刻機行業的飛速發展，導致gca每次學係統更新都比尼康公司慢半拍，製程工藝比尼康慢一代，在高階刻機市場上被步步領先的尼康公司打敗。

工作台就是一個大托盤，下麵是線馬達來控製平台移。

正常途徑就是源通過反鏡鏡頭組，集再反投到掩板上。

掩板就是電路圖反刻，從實驗室裡刻出來的，過掩板明的部分投放到矽片上，曝幾十毫秒後，通過化學反應弄出矽片上的電路圖。

掩板主要是玻璃片，上麵刻有預想的電路，然後放在機上曝，刻到矽片上看效果。

刻機源從六十年代初到八十年代中期，汞燈已用於刻，其波長分別為436nmg線、405nmh線和365nmi線。

隨著半導行業對更高解析度集度更高和速度更快的晶元和更高產量更低本的需求，基於汞燈源的刻工已不再能夠滿足半導業界的高階要求，kr248nm和ar193nm準分子激應運而生，對鏡頭、掩版和刻膠的要求更高。

隨著晶元製程工藝的提升，刻機為半導行業發展的關鍵設備。

雖然到《日半導協議的影響，日本半導如今失去了國市場，但代表世界刻機最高水平的尼康刻機還在不斷進步，ii、amd和hp等半導設備公司派業務代表，長期住在尼康半導設備公司，翹首以盼最先進的刻機出廠。

如今，尼康刻機佔據刻機市場的40%，壟斷了高階刻機市場，佳能刻機佔20%，svg、gca和ultratal、p＆e、eaton和日立等刻機公司，每家佔據的市場份額都不到5%。

日本刻機設備公司在刻機市場獨佔鰲頭！

國刻機公司每況愈下。

重生者知道，前世刻機高階市場被後起之秀asml壟斷！

贏者通吃！

由於asml效益不佳，年年虧損，去年九月，飛利浦半導公司將其持有的30%asml份，以2000萬元的價格轉讓給曙投資公司，讓曙投資公司控。-